產品介紹：

該款CVD系統, 采用雙溫區加熱形式，加熱元件采用硅鉬棒（1700℃以下使用）。

CVD管式爐由供氣系統、加熱系統、真空系統等組成；

1）加熱系統可以分單溫區、雙溫區、三溫區、多溫區等；

2）真空系統可分為低真空和高真空，極限真空可以達到10-4Pa（分子泵組）；

3）供氣系統是流量調節用戶可選質量流量計或浮子流量計，混氣路數用戶可選2路、3路、4路、5路、6路等相混合（主要根據客戶工藝要求定制）

產品用途：

應用于高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產品。

產品功能及特點：

1、 爐膛采用*真空吸附成型的高純氧化鋁多晶纖維制成，保溫效果好，耐用節能，反射率高、溫場均衡，等特點；

2、加熱元件采用高溫硅鉬棒，發熱溫度可達1700℃；

3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性。

4、爐管采用高純剛玉管對采用不會產生污染。

5、采用KF快速法蘭密封，僅需要一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人為操作導致漏氣的可能；減少了因安裝法蘭而造成加熱管損壞的可能。

6、預留了真空、氣路快速接口，可配合我司真空系統、混氣系統使用；

7、我司可預留485轉換接口，可通過我部的軟件，與計算機互聯，可實現單臺或者多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能；可安裝無紙記錄裝置，實現數據的存儲、輸出；

8、加熱采用上蓋開啟式，超溫和斷偶保護警報并斷電，漏電保護，操作安全可靠。