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半導體FAB廠純水站升級紫外線TOC降解系統

半導體FAB廠純水站升級紫外線TOC降解系統

一、紫外線 TOC 降解系統的工作原理 1-5-3-6-9-1-8-7--10-6

紫外線 TOC 降解系統主要利用 185nm 波長的紫外線來實現對水中有機物的降解。當 185nm 紫外線照射到水中時，首先與水分子發生作用。高能量的紫外線光子能夠打斷水分子的化學鍵，促使水發生均裂反應，產生羥基自由基（?OH）、氫原子（H?）和水合電子（eaq）等活性中間體。這些活性中間體具有的氧化性和反應活性。水中的有機物（TOC）遇到這些活性中間體后，會發生親電、親核或電子轉移反應。在一系列復雜的化學反應過程中，有機物分子的化學鍵被逐步打斷，結構被破壞，最終被氧化分解為二氧化碳（CO?）和水（H?O），從而實現了 TOC 的高效降解，大幅降低超純水中的有機物含量，滿足半導體制造對水質的嚴苛要求。

二、升級紫外線 TOC 降解系統的優勢

1. 高效降解：能快速有效地將超純水中的有機物分解，可使 TOC 含量降低至 ppb 級別甚至更低，顯著提升超純水的純度，極大減少因 TOC 導致的芯片制造缺陷，提高芯片良率。

2. 環保無污染：在處理過程中，僅利用紫外線和水的反應來降解有機物，無需添加任何化學藥劑，既不會引入新的雜質污染水質，也不會產生化學殘留對環境造成危害，符合半導體行業綠色生產的理念。

3. 穩定性強：系統結構相對簡單，關鍵部件如紫外線燈管等技術成熟，運行穩定性高。通過合理的設備選型和維護計劃，可確保長期穩定運行，減少設備故障對生產的影響，保障純水站持續供應高質量超純水。

4. 適配性佳：紫外線 TOC 降解系統可以靈活地與純水站現有的預處理、反滲透、離子交換等工藝模塊相結合，形成協同處理效果。例如，在反滲透前使用紫外線對原水進行預處理，可降低有機物對反滲透膜的污染風險，延長膜的使用壽命；在離子交換后進一步降解殘留的有機物，確保最終出水的 TOC 達到極低水平。同時，該系統可根據純水站的實際流量需求和水質情況進行模塊化設計和配置，方便系統的擴容和升級。